何為CVD技術(shù)？CVD是派瑞林化學(xué)氣相沉積Chemical Vapor Deposition的簡稱。即派瑞林原料在真空下裂解聚合成氣態(tài)分子，并沉積于產(chǎn)品表面，形成一層致密無針孔的納米膜層，更好的保護(hù)產(chǎn)品。該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、半導(dǎo)體、電子醫(yī)療等產(chǎn)品鍍膜防護(hù)領(lǐng)域。

CVD涂覆工序比一般涂料相比要復(fù)雜；另一方面是由于成本的問題，派瑞林（Parylene）一般只應(yīng)用于高價(jià)值的產(chǎn)品中。隨著技術(shù)的簡化和成本的降低，相信不久的將來，這種性能優(yōu)異的涂覆材料也會(huì)走向普通產(chǎn)品的市場。

CVD技術(shù)是將原料放入真空納米涂層設(shè)備的蒸發(fā)室，通過氣相反應(yīng)沉積出固態(tài)物質(zhì)，因此把CVD技術(shù)用于無機(jī)合成和材料制備時(shí)具有以下特點(diǎn)：

1）沉積反應(yīng)如在氣固界面上發(fā)生則沉積物將按照原有固態(tài)基底（又稱襯底）的形狀包覆一層薄膜。

2）涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而改變從而獲得梯度沉積物或得到混合鍍層。

3）采用某種基底材料，沉積物達(dá)到一定厚度以后又容易與基底分離，這樣就可以得到各種特定形狀的游離沉積物器具。

4）在CVD技術(shù)中也可以沉積生成晶體或細(xì)粉狀物質(zhì)，或者使沉積反應(yīng)發(fā)生在氣相中而不是在基底表面上，這樣得到的無機(jī)合成物質(zhì)可以是很細(xì)的粉末，甚至是納米尺度的微粒稱為納米超細(xì)粉末。

5）CVD工藝是在較低壓力和溫度下進(jìn)行的，通過派瑞林鍍膜技術(shù)可增強(qiáng)材料斷裂強(qiáng)度和抗震性能是在較低壓力和溫度下進(jìn)行的。

CVD技術(shù)根據(jù)反應(yīng)類型或者壓力可分為低壓CVD(LPCVD)、常壓CVD(APCVD)、亞常壓CVD(SACVD)、超高真空CVD(UHCVD)、等離子體增強(qiáng)CVD(PECVD)、高密度等離子體CVD(HDPCVD)、快熱CVD(RTCVD)、金屬有機(jī)物CVD(MOCVD)。

綜上所述，經(jīng)過派瑞林真空氣相沉積（CVD）工藝, 更好的增強(qiáng)產(chǎn)品的耐用性，做了防水涂層之后，大大延長了產(chǎn)品的使用壽命，更好的提升了產(chǎn)品的市場競爭力。

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